TFT-LCD製造技術とプロセス

薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ（TFT-LCD）は、通常、2つの完成品に並行して処理される。 基本的なプロセスは次のとおりです。

正確に配置されたカラーフィルタ層は、前面ガラス基板/カラーフィルタ基板プロセスによって形成される。

薄膜基板プロセスは、薄膜トランジスタ液晶（TFT）アレイおよび表示画素制御に使用される他の電子部品を形成する。 各画素は一般に3つの薄膜トランジスタ液晶（TFT）に対応し、各画素は一緒になって画素を構成する「カラーポイント」を制御する。 薄膜形成プロセスは、半導体製造技術に類似したCVD、エッチおよびPVDプロセス技術を使用する。 そのようなプロセスステップは数回繰り返されなければならず、連続膜層は機能的要素を形成することができる（図2）。

ザ

2つの基板は1つに結合され、液晶材料は中央に注入される。

最後に、バックライトとドライバのエレクトロニクスを組み立ててTFT-LCDモジュールを作成します。